Материал: Изучение функциональных свойств многослойных пленок на основе двух- и трехкомпонентных нитридов тугоплавких металлов и их соединений с легкоплавкими металлами и неметаллами

Внимание! Если размещение файла нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам

ментным составом, толщиной, минимальной дефектностью, высокой плотностью и инертностью к 5%-ному раствору NaOH. Основной причиной значительного различия величин iкор и Rp для МП исследуемых конструкций с одинаковым материалом верхнего TiхZr1–хN слоя не может служить метод его получения, в связи с тем, что он был одним и тем же для конст-

рукций (3.4) и (3.5).

Рис. 3.22. Анодные поляризационные кривые образца из ВК8 с МП следующих конструкций: (1); (2); (3); ο (4)

Таблица 3 . 1 5 Результаты коррозионных испытаний тестовых образцов с МП

Коррозионные характеристикиМП

 

Конструкция МП

 

(1)

(2)

(3)

(4)

 

 

 

 

 

 

Rp 10–5, Ом см2

0,3

1,1

5,5

1,0

iкор 107, А/см2

10

3,6

2,0

5,5

Одной из причин изменения iкор и Rp могли послужить локальные несплошности верхнего слоя МП, являющиеся следствием свойственных для ионно-плазменных методов неравновесных условий ее формирования. В связи с наличием локальных несплошностей на коррозионное поведение МП в некоторой степени может влиять слой, расположенный под верхним слоем.

Различия методов осаждения верхнего слоя и фазового состава слоев МП, в свою очередь, могут привести к различиям адсорбции кислорода, ингибирующей электродные процессы на поверхности МП в растворе электролита. Хемосорбция кислорода вызывает повышение энергии акти-

81

вации электродного процесса, что, в свою очередь, приводит к значительному снижению константы скорости переноса заряда вследствие экспоненциальной функциональной зависимости между энергией активации и константой скорости.

Сравнение коррозионной стойкости многослойных пленок на основе двухкомпонентных TiN (ZrN) и трехкомпонентных TiхZr1–хN слоев и однослойных TiN (ZrN) пленок (см. табл. 3.6 и табл. 3.15) показывает, что многослойные пленки не превосходят простые нитриды по защитным свойствам. Причина незначительно худших коррозионных свойств TiхZr1–хN слоев заключается в большей их восприимчивости к окислению по сравнению с TiN (ZrN) слоями. Электрохимическое окисление TiхZr1–хN слоев приводит к образованию смешанного слоя оксинитридов Ti(N, O) + Zr(N,O) в нижней части диапазона возможных потенциалов (до 1,1 В), тогда как при более высоких потенциалах возможно образование слоя смешанного оксида TiO2 + ZrO2, который по-прежнему включает в себя определенное количество N2, выделяемого в процессе трансформации оксинитрида [97].

3.3. ИЗУЧЕНИЕ ФИЗИКО-МЕХАНИЧЕСКИХ, ТРИБОЛОГИЧЕСКИХ,

КОРРОЗИОННЫХ И АДГЕЗИОННЫХ СВОЙСТВ МНОГОСЛОЙНЫХ ПЛЕНОК

НА ОСНОВЕ ТРЕХКОМПОНЕНТНЫХ TI1–ХAlХN СЛОЕВ

Напряженные Ti1–хAlхN слои, формируемые в температурном интервале Тнач.с = 0,139Тпл с Vнагр.с = 0,1…0,6 К/мин, на основе двухкомпонентного c-TiN и комплексного нитрида c-Ti3AlN с глобулярной подструктурой, минимальными: содержанием Al 8,49...9,55 ат. %, термической стабильностью и степенью текстурированности Т = 0,2…0,4, многокомпонентной текстурой обладают невысокими ФМС (рис. 3.23, а, рис. 3.24 и табл. 3.16).

Превышение объемной доли тройного нитрида с однокомпонентной текстурой (105) h-Ti2AlN 67,2 %, достижение содержания Al 23,81 ат. %, вызванное смещением процесса формирования Ti1–хAlхN слоев в область более высоких температур Тнач.с = 0,141Тпл с Vнагр.с = 0,4 К/мин, приводит к улучшению их физико-механических свойств (см. рис. 3.23, а). Комплексом высоких износостойких и антифрикционных свойств обладают Ti1–хAlхN слои с максимальными: объемной долей (105) h-Ti2AlN фазы 95,9 %, содержанием Al = 26,58 ат. %, термической стабильностью Еп = 31,6 эВ и Т = 0,8, а также минимальными: размером ОКР = 21 нм, дефектностью поверхности и однокомпонентной текстурой обладают высокими ИАС

(см. рис. 3.23, б, рис. 3.24 и табл. 3.16).

82

а

б

Рис. 3.23. Функциональные свойства Ti1–хAlхN слоев на основе тройного нитрида Ti2AlN в зависимости от их фазового и элементного состава:

а) ФМС; б) ИАС

Высокими адгезионными свойствами и минимальной хрупкостью обладают Ti1–хAlхN слои, сформированные на подложке с высокой степенью однородности температуры по сечению, при формировании в установленном интервале ТемП.

Ti1–хAlхN слои, сформированные в области более высоких темпера-

тур Тнач.с=0,161Тпл и Vнагр.с = 4 К/мин, основаны на тройных нитридах h-Ti3Al2N2 и h-Ti2AlN и с-TiN. С повышением Тнач.с до 0,178 Тпл объемная долятройного нитридадостигаетVh-Ti3Al2N2 ≥90 %, чтосопровождаетсяростом

83

а

б

в

г

Ti3Al2N2, %

д е

Рис. 3.24. Зависимости физико-механических свойств Ti1–хAlхN слоев от их: а–в) элементного состава; г, д) фазового состава. Метод осаждения:

а, г, е) МР; б, в) ЭДИ, ЭДИ+ МР

84

Таблица 3 . 1 6

Физико-механические свойства многослойных пленок на основе Ti1–хAlхN слоев, сформированных МР, ЭДИ, ЭДИ+МР

 

 

 

 

 

 

 

ТемП

 

 

 

 

 

 

 

3

*2

,

Wе,

Sотп,

 

VDI-

 

 

 

ТехП

 

 

 

δ, мкм

Н, ГПа

*

Е, ГПа

 

Н/Е

HU pl E

 

5

SRC

 

 

 

 

 

Vнагр.с,

 

 

 

 

 

 

Тс, К

Е , ГПа

 

ГПа

 

 

%

·10

3198

 

 

 

 

 

 

 

К/мин

 

 

 

 

 

 

 

 

мкм2

 

 

 

 

1

 

 

2

3

4

5

6

7

 

8

9

 

 

10

11

12

13

 

Магнетронное распыление: общие ТехП: Uвыс = 600 В; tи.о = 5 мин; Vнагр.подл = 70 К/мин; N = 2,0 кВт; Р = 1,0 Па; Uсм = 80 В;

 

 

 

 

 

 

 

 

N2 = 35 %, LAl = 270 мм и LTi = 100 мм

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Р, Па

 

0,8

605…620

0,3

3,5

32

334

313

 

0,10

0,76

 

 

64

3,52

HF-1

 

 

1,2

605…630

0,6

4,0

30

325

305

 

0,10

0,66

 

 

63

3,86

HF-1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

40

605…610

0,1

3,0

21

240

225

 

0,10

0,25

 

 

53

7,15

HF-2

 

Uсм, В

 

60

605…615

0,2

3,5

25

238

223

 

0,11

0,29

 

 

55

6,57

HF-2

 

 

80

690…710

0,4

4,0

27

291

273

 

0,10

0,44

 

 

62

4,62

HF-1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

80

605…630

0,6

4,5

33

314

294

 

0,11

0,79

 

 

66

0,65

HF-1

 

Электродуговое испарение: общие ТехП: Uвыс = 1000 В; tи.о = 20 мин; Vнагр.подл = 25 К/мин; Uсм = 200 В; N2 = 100 %; Iд = 75 А;

 

 

 

 

 

 

 

 

Р = 1,0 Па; LAl = 310 мм и LTi = 310 мм

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0,5

670…725

1,9

6,0

26

211

197

 

0,13

0,42

 

 

60

5,07

HF-2

 

Р, Па

 

0,6

670…735

2,2

6,5

28

299

280

 

0,10

0,43

 

 

61

2,89

HF-1

 

 

0,8

670…775

3,5

7,0

30

309

290

 

0,10

0,58

 

 

66

0,62

HF-1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1,0

670…790

4,0

7,0

32

351

329

 

0,10

0,70

 

 

68

0,79

HF-1

 

 

 

 

 

 

45/10

640…760

4,0

7,0

27

292

274

 

0,10

0,36

 

 

58

6,23

HF-2

Vнагр.подл

,

К/мин

 

251/20

670…790

4,0

7,5

36

382

358

 

0,10

1,31

 

 

76

0,09

HF-1

 

tи.о

мин

 

 

15/40

670…850

6,0

7,0

32

323

303

 

0,11

0,70

 

 

68

0,12

HF-1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

10/60

770…890

4,0

7,0

33

356

334

 

0,10

0,94

 

 

69

0,11

HF-1

85