Материал: TTE_Lect1

Внимание! Если размещение файла нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам

великі струми насичення IKнас

та

IЕнас

, що визначаються рухом

основних носіїв p областей.

У

базі

відбувається накопичення

неосновних нерівноважних носіїв, опір бази і всього БТ різко знижується, Транзистор у цьому режимі вважають відкритим і насиченим, вихідний струм некерованим;

3 Активний режим (АР). ЕП увімкнено в прямому напрямі, КП

– у зворотному. Полярність напруги на електродах БТ, зображених на рисунку 6.3, відповідоє цьому режиму. В колі емітера транзистора

проходить струм IE за рахунок інжекції дірок з емітера до бази, а

колекторний струм IK залежить від струму емітерного. Це основний

режим роботи БТ як підсилювального приладу, коли вихідним струмом можна управляти за допомогою зміни вхідного струму;

4 Інверсний режим. Це також режим керованого вихідного струму, однак ЕП увімкнено у зворотному напрямі, КП – прямо.

6.1.3 Принцип дії біполярного транзистора в активному режимі

Принцип дії БТ розглянемо на прикладі схеми зі спільною базою (ССБ), яку показано на рисунку 6.4.

Рисунок 6.4 – Струми в БТ, то працює в активному режимі На рисунку суцільними стрілками показано діркові струми, або

ж умовно взяті (від “+” до “-”) напрями електронних струмів у p областях, пунктирними стрілками – електронні струми в базі.

61

При полярності напруги UЕБ , що показано на рисунку 6.4,

дірки з емітера інжектують до бази, а електрони – з бази до емітера, оскільки ЕП увімкнено в прямому напрямі. Через ЕП проходять

емітерні струми: дірковий EEP та

 

електронний

EEN . Отже,

в

зовнішньому колі проходить емітерний струм

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

UЕБ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

IE

IEP IEN

 

 

I0

(e ФТ

 

1).

 

(6.1)

 

Співвідношення

 

між складовими

струму

IE оцінюється

коефіцієнтом інжекції

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

IEP

 

 

 

 

IEP

 

 

 

 

1

 

 

 

(6.2)

 

 

I

 

 

 

I

 

 

 

 

IEN

 

 

 

 

 

I

E

 

 

EP

 

EN

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

IEP

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Унаслідок інжекції концентрація дірок у базі біля ЕП

підвищується

 

до

 

величини

PБЕ ,

 

яку

можна

визначити

за

формулою (2.8)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

UКБ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

P

 

 

n

e ФТ

,

 

 

 

 

 

 

 

(6.3)

 

 

 

 

БЕ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

де n0 - концентрація дірок у базі в стані рівноваги.

Розглянемо розподіл концентрації неосновних носіїв (дірок) у базі в цьому режимі. Протяжність бази позначимо координатою х, тоді межа ЕП відповідає випадку х=0, а межа КП – х = . При х=0 концентрація дірок визначається за формулою (6.3). Концентрацію дірок у базі біля КП ( x ) знаходять за виразом

 

 

 

 

 

 

U

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

P

 

n0

e ФТ

.

 

 

(6.4)

 

БK

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Розподіл неосновних носіїв у базі транзистора в установленому

режимі визначають за допомогою рівняння неперервності 1

 

2 (pn pn

)

 

 

pn pn

(6.5)

 

 

 

 

0

 

 

 

 

0

 

 

 

x

2

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

L p

 

 

 

розв’язання якого за граничних умов (6.3) та (6.4) при

Lp має

вигляд

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

62

 

 

 

pn

 

pБЕ

pБК

.

(6.6)

x

 

 

 

 

 

 

З формули (6.6) випливає, що градієнт концентрації неосновних носіїв у базі є величиною постійною стосовно координати х, тобто розподіл концентрації дірок у базі має лінійний характер (рисунок 6.5). З цього рисунка та формул (6.3) і (6.6) бачимо, що градієнт концентрації

дірок змінюється при зміні напруги UЕБ . Під дією цього градієнта

дірки дифундують через базу від емітера до колектора. Частина дірок, не досягши КП, рекомбінує в області бази з електронами. На місце

електронів, що рекомбінували, від джерела UЕБ надходять нові електрони, створюючи рекомбінаційну складову струму бази IБрек .

Рисунок 6.5 – Розподіл концентрації дірок у базі БТ, що працює в активному режимі

Дірки, що досягли КП, створюють колекторний дірковий струм

IKP , причому внаслідок рекомбінації в базі IKP IEP . Процес

перенесення неосновних носіїв через базу під дією градієнта концентрації характеризується коефіцієнтом перенесення,

 

I

KP

1

2

,

(6.7)

 

 

2

 

IEP

2L p

 

який визначає міру зменшення

колекторного діркового

струму IKP

стосовно емітерного струму IEP .

 

 

 

 

 

 

63

 

 

Дірки,

досягши

КП, який увімкнено у

зворотному напрямі,

потрапляють

у

його

прискорювальне

поле

і перекидаються

(екстрагуються) в

p область колектора.

Екстракція дірок може

супроводжуватись ударною іонізацією атомів НП і, як наслідок,

лавинним множенням носіїв (при зворотній напрузі U).

Дірки,

що

потрапили в колектор унаслідок екстракції (при малих

U)

або

ударної іонізації, порушують електричну нейтральність

p області,

і це викликає приплив електронів від джерела

U,

тобто

проходження в зовнішньому колі колектора струму

IK .

Процес

помноження носіїв у КП оцінюється коефіцієнтом помноження колекторного струму

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

M

IK

.

 

 

 

(6.8)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

IKP

 

 

 

 

IK

 

Важливо запам’ятати, що за нормальної роботи БТ М=1,

струм

IKP

називається керованим колектором струмом

IKкер

. Ця назва

зумовлена тим, що чим більше дірок інжектуються емітером до

бази,

тим

 

більша їх

кількість екстрагує до

колектора.

Отже,

струм

IKкер

 

IKP

пропорційний до емітерного струму

 

 

 

IK

 

 

 

 

 

 

 

IKкер h21Б I E ,

 

 

 

(6.9)

де

h21Б -

статичний коефіцієнт передачі

струму емітера.

Оскільки

IKкер

IKP IEP ,

то h21Б 1.

 

 

 

 

З формули (6.9) випливає найважливіша властивість БТ: керування вихідним струмом можливе при зміні струму вхідного. З

формули (6.9) означає, що IE IEP , тому що електронний струм IEN

малий внаслідок слабкої легованості бази.

При деяких напругах на КП UUпроб , коли в переході виникає явище пробою, коефіцієнт М зростає (М>1) і струм IK IKP

буде некерованим.

Через увімкнений у зворотному напрямі КП проходить дрейфовий струм неосновних носіїв, який називається зворотним

струмом колектора I0 . Цей струм проходить від “+” джерела U

через базу, КП, колектор до “-”U. Оскільки напрям цього струму

64

збігається з напрямом керованого колекторного струму IKкер , то можна

записати для повного колекторного струму БТ в схемі зі спільною базою в активному режимі

IK IKкер

IKнекер

h21Б IE I0 ,

(6.10)

де IKкер IKнекер - некерована складова колекторного струму в ССБ.

З рисунка 2.4 випливає, що загальний струм бази дорівнює

IБ IБрек IEN

I0

IБрек I0 .

(6.11)

Струм емітера для транзистора можна знайти, враховуючи, що

він має складові IEP h21Б IE

IБрек

та IEN . Додавши і віднявши

величину I0 , одержимо

 

 

 

IE h21Б IE IБрек IEN IКБ0 IКБ0

(6.12)

Враховуючи формули (6.10) та (6.11), з (6.12) врешті одержимо вираз першого закону Кірхгофа для струмів електродів БТ у довільній схемі ввімкнення:

 

IE IБ IК .

(6.13)

З рівнянь (6.13) та (6.10) випливає

 

IБ IE IK

(1 h21Б )IE IКБ0 .

(6.14)

Порівнюючи формули (6.11) та (6.14), можна зробити висновок, що рекомбінаційна складова струму бази

IБрек (1 h21Б )IE .

(6.15)

В активному режимі (1 h21Б )IE IКБ0

, тобто напрям базового

струму визначається рекомбінаційною складовою.

1.1.4Вплив конструкції та режиму роботи транзистора на

 

 

h21Б .

 

 

 

 

IK

 

 

З формули (6.9) при Iкер

випливає, що

 

 

 

 

 

 

IKP

 

 

IEP

 

 

 

h

 

IK

 

IK

 

 

 

 

M .

(6.16)

 

IKP

IEP

IE

21Б

 

IE

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

65