Материал: zPUs6LtHHJ

Внимание! Если размещение файла нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам
Рис. 19. Тензорезисторы: а – полная мостовая
схема Уинстона тензорезисторов; б – ее эквивалентная схема. 1,3 – напряжение питания; 2,4 – измерение выходного сигнала

расположение тензорезистора 2 на планарной стороне мембраны, которая является существенным узлом тензомодуля, передающим внешнее механическое воздействие на резисторы. Совместно они образуют идеальную систему по сопряжению температурных коэффициентов (единое тело линейного расширения). Толщина мембраны 4 определяется диапазоном измерения значений внешнего механического воздействия при сохранении общей жесткости конструкции за счет утолщенной части; при этом используется факт изменения сопротивления резисторов при деформации мембраны; Rr R < 0, RτR > 0. Радиальные и тангенциальные резисторы имеют разные знаки приращения, поэтому резисторы располагаются на мембране в строго заданном кристаллографическом направлении и в положении максимальной тензочувствительности (рис. 19, а).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

Un

 

 

Это осуществляется с помо-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

щью двухсторонней литографии,

 

1

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

когда на планарной стороне зада-

 

 

 

 

Rr

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Rr

Ri

 

 

4

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ются знаки совмещения будущей

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ri

 

Ri

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ri

Rr

 

 

Us

ИС, а на обратной стороне пла-

 

 

 

 

 

 

Rr

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

стины – знаки для формирования

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

4

[110]

 

3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

мембраны. В остальном маршрут

 

 

 

 

 

 

 

 

3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

типичен для планарной техноло-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

аб

гии: формирование резисторов (см. рис. 18), маскирующего покрытия для анизотропного травления кремния (получение мем-

браны), металлизации и защиты интегральной схемы. Далее идет сборка (посадка на держатель). Для изготовления датчика избыточного давления используется держатель с отверстием, а для датчиков абсолютного давления необходима посадка в вакууме с образованием полости. Посадка осуществляется через материал с ТКЛР, близким к ТКЛР Si и держателя: для герметизации используются низкотемпературные припои, стеклоцемент, анодная посадка, посадка на эвтектику.

При изготовлении интегрально тензопреобразователя (ИТП) мембранного типа используются, как правило, четыре тензорезистора, соединенные в мостовую схему Уинстона. Во избежание ухода нуля (разбаланса) схемы при отсутствии разности давлений с внешней и внутренней сторон резисторы

26

должны изготовляться с высокой точностью как по геометрии, так и по уровню легирования. Последнее может вызвать различие в температурных коэффициентах сопротивлений (ТКС) резисторов. Эти недостатки вызывают дрейф нуля, гистерезис выходного сигнала в температурном диапазоне, нелинейность преобразовательной характеристики. Существует целый набор технических решений для получения оптимального выходного сигнала.

Простым

решением

является

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

формирование схемы, показан-

+Eпит

 

 

 

 

Rs/2

 

 

 

 

 

 

 

 

ной на рис. 20.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Это

обычный

мост, где

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ri

 

 

R1

 

 

R2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

R1...4 – диффузионные резисто-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Us

ры; RS – магазин резисторов,

 

 

Us

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

корректирующий

начальный

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

R4

 

 

R3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

разбаланс;

RT – магазин рези-

 

 

 

 

 

 

Rs/2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

сторов, компенсирующий уход

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

сигнала в

температурном диа-

 

Рис. 20. Схема нормализации и термоком-

пазоне. Резисторы RT , RS – из-

 

 

 

 

 

пенсации выходного сигнала

 

 

 

 

готавливаются в одних техно-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

логических слоях с R1...4 , поэтому

они имеют идентичные ТКС. Предусмот-

рена также возможность их подгонки (например, выжиганием перемычек с помощью лазера) к необходимому номиналу для проведения точной коррекции.

Разумеется, при такой компенсации чувствительность преобразователя понижается. Увеличения сигнала добиваются оптимальным расположением резисторов по мембране и выбором ее формы. Кроме того, форма мембраны может быть профилирована определенными образом (формирование концентраторов напряжений) для получения более высоких значений π44 в преде-

лах упругости материала. Типичным примером может считаться мембрана с жестким центром (рис. 21). Это дает возможность изготовления датчиков давления с самоограничением (превышение давления сверх нормы не вызывает разрушения мембраны).

При деформации мембраны резисторы, расположенные вблизи жесткого центра, имеют RR > 0, а резисторы, расположенные вдоль кромки заделки мембраны, имеют RR < 0 .

27

 

 

 

 

 

 

 

В ряде конструкций датчиков дав-

Рис. 21. Тензодатчик давления

 

ления с использованием планарной

 

технологии также широко исполь-

 

 

с жестким центром

 

 

 

 

 

 

зуются датчики с базовым чувстви-

 

 

 

 

 

 

 

тельным элементом «х»-дюзе-ром (x-duser, «Motorolla»). В этом случае диф-

фузионный резистор формируется под углом 45о к направлению [110], т. е.

параллельно направлению [100] (рис. 22).

 

 

Измеряемый сигнал возникает в результате эффекта поля (полевые тен-

зодатчики),

порождающего

сигнал

в

направлении,

перпендикулярном

 

 

 

 

 

 

 

направлению тока. Это напряжение

 

 

 

 

 

 

 

линейно зависит от давления, при-

 

 

 

 

 

 

 

ложенного к мембране.

 

 

 

 

 

6

 

 

Расположение датчика вдоль

[100]

 

 

 

 

 

[100] дает возможность сведения к

 

 

 

 

 

 

 

минимуму продольных и попереч-

 

 

 

 

 

[110]

 

ных напряжений (π1,1, π1,2 ) в этом

 

 

 

 

 

 

направлении и, следовательно, по-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

лучения максимального коэффици-

1

2

3

4

5

 

 

ента (π44 ).

 

 

Рис. 22. Датчик давления

 

 

 

По аналогичной технологии –

 

с полевым тензорезистором:

 

с

использованием микропрофили-

1 ‒ диффузионный резистор; 3,5 ‒ контакты

 

рования изготавливаются датчики

для измерения выходного сигнала; 2,4 ‒ кон-

такты питания резистора; 6 ‒ граница мем-

 

измерения ускорений (акселеро-

браны; X ‒ места расположения дополни-

 

метры, схематическое изображение

 

 

тельных х-дюзеров

 

 

которых показано на рис. 23).

 

 

 

 

 

 

 

Возможен и другой вариант реализации датчика, если использовать изменение емкости между корпусом (основанием) и сейсмической массой. Принцип действия такого датчика аналогичен принципу действия датчика давления.

28

 

 

1

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Более кратко остановимся на

 

 

4

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

технологии

изготовления емкост-

 

 

3

ных датчиков давления.

 

 

 

 

 

 

 

 

На рис. 24 представлена

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

структура

чувствительного эле-

Рис. 23. Датчик ускорений: 1 ‒ сейсмиче-

мента датчика давления емкостно-

ская масса; 2 ‒ диффузионный резистор; 3

профилированное основание; 4 ‒ полость

го типа. На Si-подложке п-типа из-

 

 

 

 

 

 

 

 

готовлен один из электродов (ионная имплантация фосфора). Другой электрод изготовлен из поликремния. Расстояние между ними ~1 мкм. Разделительным диэлектриком служит нитрид кремния.

Под действием внешнего давления изменяется межэлектродное расстояние конденсатора 3. Чувствительность такого датчика определяется выражением S ~ (CC)K , где величина

K

обусловливается конструкцией

1

2

3

4

преобразователя и в которую зало-

 

 

 

 

жена линейность преобразователь-

 

 

 

5

ной характеристики, включая диа-

 

 

 

пазоны измеряемых давлений. Дат-

 

 

 

6

чики такой конструкции достаточ-

 

 

 

 

но просты в изготовлении, удобны

 

 

 

 

для обработки

выходного сигнала

Рис. 24. Структура чувствительного эле-

(в цифровом коде) и в о

сновном

мента датчика емкостного типа:

предназначены

для

измерения

1 ‒ оксид кремния; подложка n-типа;

2 ‒ мембрана; 3 ‒ полость;

очень малых избыточных и диффе-

4 n+- электрод; диэлектрик;

ренциальных давлений (менее 10

5 ‒ диэлектрик; 6 ‒ кремниевая подложка

кПа). Изготовление емкостных датчиков измерения абсолютного давления

представляет значительные трудности в связи с проблемами изоляции и вы-

вода вакуум плотных электродов к схеме питания.

 

 

 

 

Достаточно близки по исполнению и использованию датчики деформа-

ций и датчики контроля прецизионных перемещений (положения). Могут

использоваться ИТП резистивного и емкостного типов, включая дискретные

элементы.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

29

 

 

 

ДАТЧИКИ ХИМИЧЕСКОГО СОСТАВА ЖИДКИХ СРЕД

Установление связи между составом и каким-либо контролируемым свойством различных веществ всегда занималась аналитическая химия. На основании выявленных закономерностей изменением концентрации ингредиентов, отслеживали изменение свойств вещества. Твердые вещества исследовали аналогичным методом подбора подходящих растворителей. Это достаточно трудоемкая и затратная работа.

Успехи микроэлектроники вывели это направление ‒ химический анализ на новый уровень. Появились химические сенсоры в микроэлектронном исполнении. Реализовалась возможность автономной работы интеллектуальных датчиков с накоплением и обработкой информации, включая управление исполнительными системами. Номенклатура датчиков, определяемая видом отклика на контролируемый параметр и его назначением, постоянно расширяется.

Интересно отметить, что химические сенсоры (жидких и газовых сред) предназначены в основном для контроля среды обитания живых существ, т. е. обеспечивают жизнедеятельность человека. Поэтому это направление весьма актуально.

Остановимся подробнее на датчиках с электрическим откликом, т. е. на тех, которые удобно обрабатывать известными методами.

Проведение химического анализа основывается на ионометрии. Анализируемый состав сильно разбавляют, для того чтобы в нем была возможна диссоциация ингредиентов исходного вещества. Тогда диссоциированные ионы ведут себя подобно молекулам идеального газа и к ним применимы соответствующие законы.

Закон Нернста. В очень разбавленных растворах ионы ведут себя подобно молекулам идеального газа, а эквивалентом давления газа служит осмотическое давление ионов в растворе. Если осмотическое давление какоголибо типа ионов выше, чем другого, то возникает компенсирующий разность давлений обмен электронами на электроде, помещенном в этот раствор.

Рассмотрим некий раствор, содержащий окислитель и восстановитель. Пусть в нем окислитель имеет концентрацию С и давление p, а восстановитель, соответственно, С1 и p1 и, причем p>p1. Опустим в раствор электрод. Тогда окислитель будет принимать электроны от электрода, при этом восстанавливаясь, и на электроде появится положительный заряд. Величина заряда

30