Множитель
медленно меняется с температурой, тогда как
множитель
сильно зависит от температуры, если
. Следовательно, для не
слишком высоких температур можно считать, что
(1.7.2)
и выражение для удельной электропроводности собственного
полупроводника заменить более простым
(1.7.3)
В примесном полупроводнике при достаточно высоких температурах проводимость является собственной, а при низких температурах примесной. В области низких температур для удельной электропроводности примесной проводимости можно записать выражения:
для примесного полупроводника с одним типом примеси
(1.7.4)
для примесного полупроводника с акцепторной и донорной
примесями
(1.7.5)
где
- энергия активации примесного полупроводника.
В области истощения примеси концентрация основных носителей остается постоянной и проводимость меняется вследствие изменения подвижности с температурой. Если основным механизмом рассеяния носителей в области истощения примеси является рассеяние на тепловых колебаниях решетки, то проводимость уменьшается с ростом температуры. Если же основным механизмом рассеяния является рассеяние на ионизированных примесях, то проводимость будет увеличиваться с ростом температуры.
Практически при исследовании температурной зависимости проводимости полупроводников часто пользуются не проводимостью, а просто сопротивлением полупроводника. Для тех областей температур, когда формулы (1.7.3), (1.7.2) и (1.7.3) справедливы, можно записать для сопротивления полупроводников следующие выражения:
для собственного полупроводника
(1.7.6)
для полупроводника n-типа
(1.7.7)
для полупроводника p-типа
(1.7.8)
для примесного полупроводника с акцепторными и донорными
примесями
(1.7.9)
Измерив температурный ход сопротивления полупроводника в
определенном интервале температур, можно из выражения (1.7.6) определить ширину
запрещенной зоны
, из формул (1.7.7), (1.7.8) - энергию ионизации
донорной
или акцепторной
примеси, из уравнения
(1.7.9) - энергии активации полупроводника
.
Зависимость сопротивления полупроводников от температуры значительно резче, чем у металлов: температурный коэффициент сопротивления у них в десятки раз выше, чем у металлов, и имеет отрицательный знак. Теплоэлектрический полупроводниковый прибор, использующий зависимость электрического сопротивления полупроводника от температуры, предназначенный для регистрации изменения температуры окружающей среды, называется термистором или терморезистором. Он представляет собой объемное нелинейное полупроводниковое сопротивление с большим отрицательным температурным коэффициентом сопротивления. Материалами для изготовления терморезисторов служат смеси окислов различных металлов: меди, марганца, цинка, кобальта, титана, никеля и др.
Из числа отечественных терморезисторов наиболее распространены кобальто-марганцевые (КМТ), медно-марганцевые (ММТ) и медно-кобальто-марганцевые (СТЗ) терморезисторы.
Область применения каждого типа терморезистора определяется его свойствами и параметрами: температурной характеристикой, коэффициентом температурной чувствительности B, температурным коэффициентом сопротивления α, постоянной времени τ, вольт-амперными характеристиками.
Зависимость сопротивления полупроводникового материала
терморезистора от температуры называется температурной характеристикой, она
имеет вид
(1.7.10)
Коэффициент температурной чувствительности B может быть определен по
формуле:
(1.7.11)
Энергия активации полупроводникового материала терморезистора
определяется по формуле:
(1.7.12)
Важной особенностью полупроводников является способность
увеличивать электропроводность под действием света. Полупроводник, меняющий
свою проводимость при освещении его светом, называется фотосопротивлением
(фоторезистором). Уменьшение сопротивления полупроводника, обусловленное
поглощением света, объясняется увеличением числа свободных носителей заряда.
Квантовым выходом (вероятностью), рассчитанным на поглощённый световой поток,
называется отношение числа неравновесных фотоносителей заряда к общему числу
поглощенных квантов света:
(1.8.1)
Фототоком
фотосопротивления при данном напряжении
называется разность тока при освещении полупроводника
и темнового тока
:
(1.8.2)
Если фотосопротивление не освещено, то его величина очень большая. Его называют темновым сопротивлением, а ток, соответствующий ему - темновым током. Величина темнового сопротивления определяется температурой и чистотой полупроводника. При освещении прибора его сопротивление уменьшается и тем значительнее, чем больше световой поток.
Благодаря внутреннему фотоэффекту фоторезистор непосредственно преобразует световую энергию в электрическую энергию.
Световой (энергетической) характеристикой фотосопротивления
называется зависимость фототока от светового потока при данном напряжении. Эта
зависимость, показана на рис. 1.8.1.
Рис. 1.8.1. Зависимость фототока от
светового потока
Вольтамперная характеристика фотосопротивления имеет линейный характер при постоянном световом потоке и выражает зависимость фототока от приложенного напряжения.
Важной характеристикой фотосопротивления также является удельная
чувствительность, т.е. отношение фототока
к световому потоку Ф и к
величине приложенного напряжения U:
(1.8.3)
Из фотометрии известно, что световой поток
Ф = ES (1.8.4)
где E - освещенность поверхности; S - площадь светочувствительного слоя фотосопротивления.
В случае малых световых потоков Ф, когда кванты света идут на
образование избыточных носителей, количество образующихся носителей, а,
следовательно, и величина фототока пропорциональны падающему световому потоку (
~ Ф, т.е.
= a* Ф = a * ES, где а - некоторая
постоянная). При этом фотосопротивление выражается как
(1.8.5)
При больших световых потоках наступает насыщение и линейная
зависимость фототока от светового потока нарушается (
~
).
Принимая во внимание, что темновой ток ((
~ Ф0)) и
темновое сопротивление являются постоянными для данного фоторезистора, и
учитывая (6) - (7) перепишем формулу (8) в виде
(1.8.6)
где A= Iт/aS - некоторая неизвестная постоянная.
Учитывая линейную зависимость фототока от светового потока,
из формулы (9) следует описание зависимости фотосопротивления от освещенности:
(1.8.7)
Данная глава посвящена исследованию
электрофизических параметров полупроводниковых материалов. В ходе экспериментов
определялись удельное сопротивление с использованием четырехзондовой методики,
тип проводимости по знаку термоЭДС, температурная зависимость электрического
сопротивления полупроводников, вольт-амперные характеристики фоторезисторов.
Цель работы:
Определить удельное сопротивление полупроводникового образца с использованием четырехзондовой методики, а также определить тип проводимости полупроводникового образца по знаку термоЭДС с использованием термозонда.
Оборудование: потенциометр, мультиметр MY-64, магазин сопротивлений, универсальный мост, реостат 5000 Ом, держатель образца, полупроводниковые образцы произвольной формы, источники постоянного тока, ключи и переключатели.
Схема экспериментальной установки:
Для определения удельного сопротивления образцов:
Для определения типа проводимости образцов:
Экспериментальные данные:
1. Определение типа проводимости:
№ образца
1
2
3
4
Тип проводимости
электронный
электронный
электронный
дырочный
. Определение удельного сопротивления:
n=5 α=0,9 t=2,1
Образец №1
№
I, мА
U, В
U/I
, Ом*м
, Ом*м
, (Ом*м)2
S, Ом*м
, Ом*м
1
2
0,06
0,03
2,4492
-0,073476
0,005398723
0,013
0,0281711
1,19
2
2
0,06
0,0295
2,40838
-0,032656
0,001066414
3
2
0,06
0,0285
2,32674
0,048984
0,002399432
4
2
0,06
0,0295
2,40838
-0,032656
0,001066414
5
2
0,06
0,028
2,28592
0,089804
0,008064758
ср. знач
2,37572
-3,553E-16
0,003599148
Образец №2
№
I, мА
U, В
U/I
, Ом*м
, Ом*м
, (Ом*м)2
S, Ом*м
, Ом*м
1
2
0,06
0,0295
2,40838
-0,032656
0,001066414
0,083
0,1745869
6,46
2
2
0,07
0,0355
2,89822
-0,522496
0,27300207
3
2
0,06
0,032
2,61248
-0,236756
0,056053404
4
2
0,07
0,0335
2,73494
-0,359216
0,129036135
5
2
0,07
0,035
2,8574
-0,481676
0,232011769
ср. знач
2,70228
-0,32656
0,138233958
Образец №3
№
I, мА
U, В
U/I
, Ом*м
, Ом*м
, (Ом*м)2
S, Ом*м
, Ом*м
1
2
7,86
3,93 -318,46948
101422,8071
49,98
104,95215
47,8
2
2
5,33
2,665
217,571
-215,19488
46308,83466
3
2
4,32
2,16
176,342
-173,96668
30264,40436
4
2
4,5
2,25
183,69
-181,31428
32874,86668
5
2
4,89
2,445
199,61
-197,23408
38901,28074
ср. знач
219,612
-217,23588
49954,43872
Образец №4
№
I, мА
U, В
U/I
, Ом*м
, Ом*м
, (Ом*м)2
S, Ом*м
, Ом*м
1
2
6,7
3,35
273,494
-271,11828
73505,11958
82,98
174,25773
47,3
2
2
10,8
5,4
440,856
-438,48028
192264,9524
3
2
10,6
5,3
432,692
-430,31628
185172,0974
4
2
8,7
4,35
355,134
-352,75828
124438,4013
5
2
8,3
4,15
338,806
-336,43028
113185,3306
ср. знач
368,196
-365,82068
137713,1803
Вывод:
В ходе выполнения данной работы были определены тип
проводимости и удельное сопротивление для четырех полупроводниковых образцов. В
результате установлено, что для каждого образца эти величины имеют следующие
значения:
Образец
Тип проводимости
ρ, Ом∙см
1
Электронный
0,024
2
Электронный
0,027
3
Электронный
2,19
4
Дырочный
3,68
Сопоставляя полученные значения удельного сопротивления с
табличными, с учетом определенного типа проводимости можно сделать вывод, что
исследованные образцы под номерами 1,2 принадлежат к марке монокристаллического
кремния КЭФ 3В, образец №3 к марке КЭФ 1А, а образец №4 к марке КДБ 1А.
Цель работы: ознакомление с классическим методом
измерения сопротивления при помощи резистивного моста; вычисление удельного
сопротивления.
Оборудование: мост постоянного тока, нагреватель,
измеритель температуры, терморезисторы, мультиметр MY-64.
Схема экспериментальной установки
Экспериментальные данные:
ММТ-8
№
t,°C
T, K
1/T*10¯⁵
R, Ом
LnR
E*10²³,
Дж/К
R, Ом
R²,
Ом²
S
R, Ом
1
20
293
341,297
117,85
4,769413
55,96605634
-0,9412
0,88595
0,07
0,1291
0,1
2
40
313
319,489
117,33
4,76499
-0,4213
0,17745
3
50
323
309,598
117,21
4,763967
-0,3012
0,09075
4
60
333
300,3
116,98
4,762003
-0,0713
0,00508
5
70
343
291,545
116,77
4,760206
0,13875
0,01925
6
80
353
283,286
116,51
4,757977
0,39875
0,159
7
90
363
275,482
116,39
4,756947
0,51875
0,2691
8
100
373
268,097
116,23
4,755571
0,67875
0,4607
ср. знач
116,9088
-2E-15
0,25841
ММТ-8
№
t,°C
T, K
1/T*10¯⁵
R, Ом
LnR
E*10²³,
Дж/К
R, Ом
R²,
Ом²
S
R, Ом
1
20
293
341,297
20,62
3,026261
1719,798835
-7,405
54,834
0,62
1,1815
8,9
2
40
313
319,489
18
2,890372
-4,785
22,8962
3
50
323
309,598
16
2,772589
-2,785
7,75623
4
60
333
300,3
14,3
2,66026
-1,085
1,17723
5
70
343
291,545
12
2,484907
1,215
1,47623
6
80
353
283,286
10,8
2,379546
2,415
5,83223
7
90
363
275,482
8
2,079442
5,215
27,1962
8
100
373
268,097
6
1,791759
7,215
52,0562
ср. знач
13,215
0
21,6531
КМТ-12
№t,°CT, K1/T*10¯⁵R, ОмLnRE*10²³, Дж/КR, ОмR², Ом²SR, Ом
1
14
287
348,432
590
6,380123
8035,673521
-111,25
12376,6
8,85
16,815
3,5
2
16
289
346,021
550
6,309918
-71,25
5076,56
3
18
291
343,643
520
6,253829
-41,25
1701,56
4
20
293
341,297
490
6,194405
-11,25
126,563
5
22
295
338,983
450
6,109248
28,75
826,563
6
24
297
336,7
430
6,063785
48,75
2376,56
7
26
299
334,448
410
6,016157
68,75
4726,56
8
28
301 390
5,966147
88,75
7876,56
ср. знач
478,75
0
4385,94
Вывод:
В ходе выполнения данной работы были cняты температурные
характеристики, вычислена ширина запрещённой зоны полупроводника. В результате
установлено, что зависимость сопротивления полупроводника от температуры имеет
экспоненциальный характер. Цель работы: исследовать вольт-амперные характеристики
фоторезисторов.
Оборудование: мультиметр MY-64, реостат 5000 Ом,
источник постоянного тока, источник питания, люксметр Ю116, фоторезистор ФСК-1,
осветитель, проектор на 2000 лк.
Схема экспериментальной установки:
Экспериментальные данные:
ВАХ ФСК-1
E=100 Лк
n=16
α=0,9
t=1,8
№
U, В
Ic, мА
Iт, мА
Iф, мА
I, мА
I, мА
S
I, мА
e, %
1
1
0,005
0
0,005
0,0101
0,0051
0,00002601
0,001
0,002
0,7
2
2,2
0,012
0,001
0,011
0,02222
0,01122
0,000125888
3
3,5
0,021
0,001
0,02
0,03535
0,01535
0,000235623
4
5,5
0,036
0,001
0,035
0,05555
0,02055
0,000422303
5
7,9
0,06
0,001
0,059
0,07979
0,02079
0,000432224
6
9,9
0,079
0,002
0,077
0,09999
0,02299
0,00052854
7
15
0,137
0,002
0,135
0,1515
0,0165
0,00027225
8
20,2
0,191
0,002
0,189
0,20402
0,01502
0,0002256
9
25,2
0,248
0,002
0,246
0,25452
0,00852
7,25904E-05
10
30
0,29
0,002
0,288
0,303
0,015
0,000225
11
34,8
0,342
0,003
0,339
0,35148
0,01248
0,00015575
12
40,1
0,408
0,003
0,405
0,40501
1E-05
1E-10
13
44,9
0,463
0,003
0,46
0,45349
-0,00651
4,23801E-05
14
50
0,515
0,003
0,512
0,505
-0,007
4,9E-05
15
55
0,568
0,003
0,565
0,5555
-0,0095
9,025E-05
16
60,3
0,625
0,003
0,622
0,60903
-0,01297
0,000168221
ср. знач
0,255972
0,007971875
0,000255528
1
1
0,011
0
0,011
0,0173
0,0063
0,00003969
0,001
0,002
0,4
2
2
0,023
0,001
0,022
0,0346
0,0126
0,00015876
3
5,5
0,081
0,001
0,08
0,09515
0,01515
0,000229523
4
10,5
0,162
0,002
0,16
0,18165
0,02165
0,000468723
5
15,2
0,241
0,002
0,239
0,26296
0,02396
0,000574082
6
20
0,336
0,002
0,334
0,346
0,012
0,000144
7
25
0,419
0,002
0,417
0,4325
0,0155
0,00024025
8
30
0,5
0,002
0,498
0,519
0,021
0,000441
9
35,2
0,606
0,003
0,603
0,60896
0,00596
3,55216E-05
10
40,1
0,693
0,003
0,69
0,69373
0,00373
1,39129E-05
11
45,2
0,784
0,003
0,781
0,78196
0,00096
9,216E-07
12
50
0,874
0,003
0,871
0,865
-0,006
3,6E-05
13
55,1
0,961
0,003
0,958
0,95323
-0,00477
2,27529E-05
14
60,1
1,064
0,003
1,061
1,03973
-0,02127
0,000452413
ср. знач
0,487984
0,007626429
0,000262273
1
1
0,018
0
0,018
0,0311
0,0131
0,00017161
0,002
0,003
0,4
2
2,2
0,048
0,001
0,047
0,06842
0,02142
0,000458816
3
5,1
0,129
0,001
0,128
0,15861
0,03061
0,000936972
4
10
0,271
0,002
0,269
0,311
0,042
0,001764
5
15,1
0,428
0,002
0,426
0,46961
0,04361
0,001901832
6
20
0,59
0,002
0,588
0,622
0,034
0,001156
7
25
0,753
0,002
0,751
0,7775
0,0265
0,00070225
8
30
0,908
0,002
0,906
0,933 0,000729
9
34,8
1,067
0,003
1,064
1,08228
0,01828
0,000334158
10
39,8
1,239
0,003
1,236
1,23778
0,00178
3,1684E-06
11
45,2
1,413
0,003
1,41
1,40572
-0,00428
1,83184E-05
12
50,6
1,592
0,003
1,589
1,57366
-0,01534
0,000235316
13
55,4
1,749
0,003
1,746
1,72294
-0,02306
0,000531764
14
59,7
1,885
0,003
1,882
1,85667
-0,02533
0,000641609
ср. знач
0,875021
0,013592143
0,000869376
Вывод: Вольт-амперная
характеристика прибора нелинейная при малых освещенностях и линейная при
больших, т.е. выполняется закон Ома в широкой области изменения напряжения. В
области слабых электрических полей фоторезисторы являются омическими
сопротивлениями.
Подводя итоги по курсовой работе, следует отметить, что были
выполнены все поставленные цели:
· углубить знания раздела дисциплины,
касающегося основных свойств полупроводниковых материалов;
· рассмотреть и изучить свойства
полупроводниковых материалов.
В работе были исследованы полупроводниковые приборы:
· получены зависимости проводимости,
сопротивления от температуры
· определена ширина запрещенной зоны
· получены вольт-амперные характеристики
· определена величина удельного
сопротивления эпитаксиальных структур.
В процессе выполнения работы была изучена зонная теория
твердого тела, теория, описывающая концентрацию носителей заряда в
полупроводниках, динамика образования и движения носителей заряда в полупроводниковых
материалах. Освоены методы исследования вольт-амперных характеристик
полупроводниковых приборов, четырехзондовый метод измерения удельного
сопротивления, зависимости сопротивления от температуры.
Полупроводниковые материалы применяются для изготовления
полупроводниковых приборов и устройств микроэлектроники. Особенности
электрофизических свойств полупроводников определяются природой сил связи.
Пригодность полупроводникового материала зависит от его кристаллической
структуры, ширины запрещенной зоны, положения примесных уровней и однородности
распределения примеси по объему. Оптическими, термическими,
термоэлектрическими, и электрическими свойствами полупроводниковых материалов
определяются эксплуатационные характеристики готовых изделий. Особые требования
предъявляют к таким свойствам, как тип электропроводности, концентрация
введенной примеси, подвижность и время жизни носителей заряда.
В заключение хотелось бы еще раз подчеркнуть, что развитие
современной электронной техники идёт по пути микроминиатюризации электронного
оборудования. Только развитие полупроводниковой электроники открыло перед
электронной техникой эту возможность. Таким образом, главнейшей задачей,
стоящей перед полупроводниковой техникой, является обеспечение возможности создания
микроминиатюрного высоконадежного и дешевого электронного оборудования.
1.
Федотов
Я.А. Основы физики полупроводниковых приборов. - М.: Советское радио, 1969.
2.
Епифанов
Г.И., Мома Ю.А. Физические основы конструирования и технологии РЭА и ЭВА. - М.:
Советское радио, 2009.
3.
Епифанов
Г.И. Физика твёрдого тела. - М.: В.Ш. 1977.
4.
Рымкевич
П.А. Курс физики. - М.: В.Ш. 1977.
5.
Пасынков
В.В., Сорокин В.С. Материалы электронной техники. - Учеб. Для студентов по спец.
«Полупроводники и диэлектрики» - 2-е изд., перераб. и доп. - М.: Высшая школа,
1986.
6.
Пасынков
В.В., Чиркин Л.К. Полупроводниковые приборы. М.: Высшая школа, 1987.
7.
Пасынков
В.В., Богородицкий Н.П. Электротехнические материалы. - М.: Высшая школа, 1977
8.
Шалимов
К.В. Физика полупроводников: Учебник для вузов. - 3-е изд., перераб. и доп. -
М.: Энергоатомиздат, 1985.
9.
Шалимов
К.В. Практикум по полупроводникам и полупроводниковым приборам. - М.: Высшая
школа, 1968.
10.Лысов В.Ф. Практикум по физике полупроводников - М.: Просвещение,
1976.
11.http://elib.ispu.ru/library/lessons/Egorov/HTML/Index.html
2.2.
Исследование
температурной зависимости электрического сопротивления полупроводников
2.3
Изучение фотопроводимости полупроводников
Заключение
Список
использованной литературы