|
S |
|
|
|
B |
|
|
- |
0 |
|
|
Fл |
S |
||
|
|||
|
|
B |
|
|
|
0 |
|
N |
|
α |
|
|
- |
||
|
|
||
|
|
N |
|
Рис. 4 |
|
Рис. 5 |
Когда α ≠ 900, вектор скорости электрона можно разложить на две составляющие – поперечную и продольную относительно направления магнитных силовых линий (рис. 5). Под действием поперечной составляющей электрон будет двигаться по окружности, а под действием продольной составляющей - двигаться поступательно. В результате траектория будет представлять собой спираль.
5)Зонная энергетическая диаграмма.
Упроводников большое количество свободных электронов, у диэлектриков валентные электроны удерживаются ковалентными связями, у полупроводников структура как у диэлектриков, но ковалентные связи значительно слабее. Достаточно сравнительно небольшого количества энергии, получаемой из внешней среды (температура, освещённость, сильное электрическое поле) чтобы электроны полупроводника разорвали ковалентные связи и стали свободными.
Диапазон энергий, в котором лежит энергия электрона, удерживаемого ковалентной связью, называется зоной валентности, или валентной зоной.
Диапазон энергий, в котором лежит энергия электрона, разорвавшего ковалентную связь и ставшего свободным, называется зоной проводимости.
Графическое изображение этих энергетических зон называется зонной энергетической диаграммой.
W
Для полупроводников
Зона проводимости
Wп
W=Wп-Wв Запрещённая зона
Wв
Зона валентности
Рис. 6
Е. А. Москатов. Стр. 6
Для того, чтобы электрон смог разорвать ковалентную связь и стать свободным, он должен получить энергию, большую ширины запрещённой зоны.
W |
|
|
Для диэлектриков |
W |
|
Для проводников |
|
|
|||||
Wп |
|
|
Зона проводимости |
|
|
|
|
|
|
|
Зона проводимости |
||
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
W=Wп-Wв |
Wв |
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
Запрещённая зона |
Wп |
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
|
Wв |
|
|
|
|
|
Зона валентности |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Зона валентности |
|
|
|
|
|
|
Рис. 7 |
|
|
Рис. 8 |
Электропроводность полупроводников
1)Собственная проводимость полупроводников
2)Примесная проводимость полупроводников
3)Дрейфовый и диффузионный токи в полупроводниках
1) Собственная проводимость полупроводников. Собственным полупроводником, или же полупроводником i-типа называется идеально химически чистый полупроводник с однородной кристаллической решёткой.
Ge |
4-х валентны |
Si |
Кристаллическая структура полупроводника на плоскости может быть определена следующим образом.
|
- |
|
|
- |
|
- |
|
- |
Si |
- |
- |
Si |
- - |
Si |
- |
|
- |
|
|
- |
|
|
+ |
- |
|
|
|
- |
|
|
|||
|
- |
|
- |
+ |
|
- |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
- |
Si |
+ |
- |
Si |
- |
- |
Si |
- |
- |
- |
- |
|
Рис. 9 |
|
Если электрон получил энергию, большую ширины запрещённой зоны, он разрывает ковалентную связь и становится свободным. На его месте образуется вакансия, которая имеет по-
Е. А. Москатов. Стр. 7
ложительный заряд, равный по величине заряду электрона и называется дыркой. В полупроводнике i-типа концентрация электронов ni равна концентрации дырок pi. То есть ni=pi. Процесс образования пары зарядов электрон и дырка называется генерацией заряда. Свободный электрон может занимать место дырки, восстанавливая ковалентную связь и при этом излучая избыток энергии. Такой процесс называется рекомбинацией зарядов. В процессе рекомбинации и генерации зарядов дырка как бы движется в обратную сторону от направления движения электронов, поэтому дырку принято считать подвижным положительным носителем заряда. Дырки и свободные электроны, образующиеся в результате генерации носителей заряда, называются собственными носителями заряда, а проводимость полупроводника за счёт собственных носителей заряда называется собственной проводимостью проводника.
2) Примесная проводимость проводников.
Так как у полупроводников i-типа проводимость существенно зависит от внешних условий, в полупроводниковых приборах применяются примесные полупроводники.
Si |
- |
Si |
|
+ |
|
Р-
Si Si
Рис. 10
Если в полупроводник ввести пятивалентную примесь, то 4 валентных электрона восстанавливают ковалентные связи с атомами полупроводника, а пятый электрон остаётся свободным. За счёт этого концентрация свободных электронов будет превышать концентрацию дырок.
Примесь, за счёт которой ni>pi, называется донорной примесью.
Полупроводник, у которого ni>pi, называется полупроводником с электронным типом проводимости, или полупроводником n-типа.
В полупроводнике n-типа электроны называются основными носителями заряда, а дырки – неосновными носителями заряда.
Si Si
+
В
-
+
Si Si
Рис. 11
При введении трёхвалентной примеси три её валентных электрона восстанавливают ковалентную связь с атомами полупроводника, а четвёртая ковалентная связь оказывается не восстановленной, т. е. имеет место дырка. В результате этого концентрация дырок будет больше концентрации электронов.
Е. А. Москатов. Стр. 8
Примесь, при которой pi>ni, называется акцепторной примесью.
Полупроводник, у которого pi>ni, называется полупроводником с дырочным типом проводимости, или полупроводником p-типа.
В полупроводнике p-типа дырки называются основными носителями заряда, а электроны – неосновными носителями заряда.
Реальное количество примесей в полупроводнике составляет примерно 1015 1/см3.
3) Дрейфовый и диффузионный токи в полупроводниках.
Дрейфовый ток в полупроводнике – это ток, возникающий за счёт приложенного электрического поля. При этом электроны движутся навстречу линиям напряжённости поля, а дырки – по направлению линий напряжённости поля. Диффузионный ток – это ток, возникающий из-за неравномерной концентрации носителей заряда.
n2>n1. n2-n1=Δn.
|
|
E |
|
|
n1 |
|
n2 |
|
|
|
|
- |
|
|
|
|
x |
|
|
|
|
Рис. 12 |
|
|
Отношение |
n |
– это градиент неравномерности концентрации примесей. Величина диф- |
||
x |
||||
фузионного тока будет определяться градиентом неравномерности |
n |
и будет составлять |
||
x |
||||
|
n |
|
|
|
In.диф=e Dn x |
, |
|
|
|
Ip.диф=−e Dp xp ,
где Dp и Dn – коэффициенты диффузии.
Электронно-дырочный (p-n) переход
1)Образование электронно-дырочного перехода
2)Прямое и обратное включение p-n перехода
3)Свойства p-n перехода
1) Образование электронно-дырочного перехода. Ввиду неравномерной концентрации на границе раздела p и n полупроводника возникает диффузионный ток, за счёт которого электроны из n-области переходят в p-область, а на их месте остаются некомпенсированные заряды положительных ионов донорной примеси. Электроны, приходящие в p- область, рекомбинируют с дырками, и возникают некомпенсированные заряды отрицательных ионов акцепторной примеси. Ширина p-n перехода – десятые доли микрона. На границе раздела возникает внутреннее электрическое поле p-n перехода, которое будет тормозящим для основных носителей заряда и будет их отбрасывать от границы раздела.
Е. А. Москатов. Стр. 9
Р |
|
|
n |
|
Si |
Si |
Si |
|
Si |
В |
- |
- |
Р |
+ |
+ |
|
|||
Si |
Si |
Si |
|
Si |
Рис. 13
Для неосновных носителей заряда поле будет ускоряющим и будет переносить их в область, где они будут основными. Максимум напряжённости электрического поля – на границе раздела.
|
|
+ |
- |
+ |
- |
|
|
- |
+ |
||
|
|
|
|
||
|
- |
|
- |
+ |
|
|
|
- |
+ |
+ |
|
|
|
|
|||
p |
|
|
- |
+ |
|
|
|
n |
|||
|
|
|
|
||
E |
|
|
|
|
|
x

к
x
Рис. 14
Распределение потенциала по ширине полупроводника называется потенциальной диаграммой. Разность потенциалов на p-n переходе называется контактной разностью потенциалов или потенциальным барьером. Для того, чтобы основной носитель заряда смог преодолеть p-n переход, его энергия должна быть достаточной для преодоления потенциального барьера.
2) Прямое и обратное включение p-n перехода.
Приложим внешнее напряжение плюсом к p-области. Внешнее электрическое поле направлено навстречу внутреннему полю p-n перехода, что приводит к уменьшению потенциального барьера. Основные носители зарядов легко смогут преодолеть потенциальный барьер, и поэтому через p-n переход будет протекать сравнительно большой ток, вызванный основными носителями заряда.
Е. А. Москатов. Стр. 10