вана малим диференціальним опором |
rä |
(рис. 1.17 а), |
і |
||||||||||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
ï ð |
|
|
|
|
|
|
|
можна вважати |
|
Zï ð r1 |
rä |
|
. |
При зворотному включенні |
|||||||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
ï ð |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
діода великий |
диференціальний опір |
|
rä |
зашунтований |
|||||||||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
çâ |
|
|
|
|
|
|
|
ємністю Ñáàð , і тому на високих частотах |
|
|
|
|
|
|
|||||||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
Zçâ r1 1/ j Cáàð . |
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||
Тоді Z |
ï ð |
r r |
|
, |
|
Z |
çâ |
|
|
|
r 2 1/ 2Ñ 2 |
|
, |
і умовою |
|||||||||||
|
|
1 |
ä |
|
|
|
|
|
1 |
|
|
áàð |
|
|
|
|
|
||||||||
|
|
|
|
|
|
ï ð |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||||
односторонньої |
|
провідності |
|
є |
|
|
|
r2 1/ 2Ñ 2 |
|
>> r r |
|
, |
|||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
1 |
|
|
áàð |
1 |
ä |
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
ï ð |
|
або остаточно |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
1 |
|
|
r |
|
|
1 |
2r1 |
. |
|
|
|
(2.4) |
|||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||||||||
|
|
|
|
|
Cáàð |
|
ä |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||
|
|
|
|
|
|
|
ï ð |
|
|
|
|
rä |
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
ï ð |
|
|
|
|
|
|
|
|
||||
Виконання цієї умови можливе при зменшенні ємності |
|||||||||||||||||||||||||
p-n переходу. |
|
|
Це |
стає |
|
можливим |
|
при |
|
застосуванні |
|||||||||||||||
точково-контактного або мікросплавного способів його виготовлення. Тому універсальні діоди – це здебільшого точкові або мікросплавні діоди. Останні розраховані на більші допустимі струми і мають кращі характеристики при зворотному включенні.
ВАХ універсального діода (рис. 2.5) не має ділянки насичення на зворотній гілці. Це пояснюється, зокрема, нагріванням унаслідок незадовільного відведення тепла й ударною іонізацією, що спричиняється неоднорідністю електричного поля у переході.
До параметрів універсальних діодів належать, крім перелічених у п. 2.2, ємність діодів при заданій зворотній напрузі, а також діапазон робочих частот і температур.
54
I
30
20
10
75 50 25
0 1 2 3 U
0,5
Рисунок 2.5 – ВАХ універсального діода
2.5 Імпульсні діоди та перехідні процеси в них
Імпульсні діоди використовують як ключові елементи в пристроях імпульсної техніки. За конструкцією і характеристиками вони нагадують універсальні діоди. Крім високочастотних властивостей (мінімальної ємності Ñáàð ),
ці діоди повинні мати мінімальну тривалість перехідних процесів у момент вмикання та вимикання.
Перехідні процеси у діодах існують завжди й особливо виявляються при роботі з імпульсами малої тривалості або миттєвими перепадами напруг і струмів. Вони пов’язані з процесами накопичення та розсмоктування носіїв у базі діода.
Розглянемо ці фізичні процеси (рис. 2.6 та 2.7) при високому рівні інжекції.
При вмиканні прямого струму Iï ð i в момент t1 у базі
діода поступово наростає надлишкова концентрація неосновних нерівноважних носіїв заряду (рис. 2.6 в). У початковий момент внаслідок малої кількості цих носіїв електропровідність приладу незначна (опір бази великий), і пряма напруга на діоді буде завищеною (як спад напруги на великому опорі бази діода при протіканні Iï ð i ). У міру
55
накопичення неосновних носіїв (інжекції) опір бази
поступово зменшується, і напруга на діоді |
Uï ð |
також |
зменшується до усталеного значення Uï ð óñò |
(рис. |
2.6 б). |
Час tóñò t4 t1 називається часом установлення прямого опору.
I |
|
|
|
|
|
|
Iпр i |
|
|
|
|
|
|
а) |
|
|
t2 t3 |
t4 |
t |
|
U |
t0 |
t1 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Uпр max
1,2Uпр
Uпр
б) |
|
|
|
|
|
t |
|
|
|
|
|
tуст |
|
|
Pn |
|
|
|
|
|
|
t0 |
t1 |
t2 |
t3 |
t4 |
|
в) |
Pn0 |
|
|
|
ω |
x |
|
|
0 |
|
|
||
|
|
|
|
|
||
Рисунок 2.6 – Перехідні процеси в діоді при вмиканні |
||||||
Якщо тепер перемкнути діод, тобто Uï ð замінити на запірну U çâ в момент t5 (рис. 2.7 а), то зворотний струм I çâ різко зростає до значення Içâmax (рис. 2.7 б) внаслідок того, що опір бази не може зрости миттєво. Ще у стані прямого
56
ввімкнення діода поле p-n переходу виштовхує дірки з n- області бази, створюючи дрейфовий струм. Безпосередньо після моменту перемикання t5 ефективність екстракції стає
значно вищою (за рахунок зменшення дифузійного струму), і нерівноважні дірки розсмоктуються з бази, збільшуючи її опір (рис. 2.7 в). Розсмоктуванню неосновних носіїв з бази сприяє й рекомбінація дірок з електронами. Цей процес проходить впродовж часу відновлення зворотного опору
бази |
tâ³ä t8 |
t5 |
до |
того |
моменту, |
поки |
струм |
I çâ |
не |
|||
зменшиться до рівноважного усталеного значення |
Içâ |
óñò |
, |
|||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
яке відповідає великому опору включеного в зворотному |
||||||||||||
напрямі p-n переходу і збідненої на носії бази. |
|
|
|
|||||||||
|
|
|
U |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Uпр уст |
|
t4 |
t5 |
t6 |
t7 |
t8 |
t |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
а) |
Uзв |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Iпр уст |
I |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
t |
|
б) Iзв уст |
|
|
||
|
Iзв max |
|
tвід |
|
|
|
|
||
|
t4 |
|
|
|
|
Pn |
|
|
|
|
t5 |
t6 |
|
|
|
|
|
||
|
Pn0 |
t7 |
|
|
в) |
t8 |
x |
||
|
||||
|
0 |
|
ω |
|
Рисунок 2.7 – Перехідні процеси в діоді при вимиканні
57
Швидкодія імпульсних діодів збільшується за допомогою введення спеціальних легуючих домішок, які зменшують середню тривалість життя неосновних носіїв. Такими домішками до НП n-типу є, наприклад, золото.
Іншим способом зменшення часу відновлення зворотного опору бази є використання бази з нерівномірною концентрацією домішок. Це можна здійснити, наприклад, за допомогою дифузії акцепторів до НП n-типу. На рисунку 2.8 показано розподіл різниці концентрацій акцепторів та донорів і створення p-n переходу в НП.
NД - NА |
р |
n |
|
|
EБ
0
База x
Емітер
Рисунок 2.8 – Створення переходу з нерівномірним розподілом донорів у базі дифузією акцепторів до НП n-типу
З рисунка бачимо, що концентрація домішок у базі при наближенні до p-n переходу зменшується, тому нерівномірною буде й концентрація основних носіїв – електронів. Унаслідок цього електрони дифундують у бік p-n переходу, залишаючи за собою нескомпенсований заряд позитивних іонів. У базі виникає електричне поле EÁ ,
спрямоване в бік переходу. Під дією цього поля дірки, інжектовані до бази при вмиканні діода в прямому напрямі, накопичуються біля межі p-n переходу. При перемиканні діода з прямого напряму на зворотний ці дірки під дією
58