эпоксидный смола полиаминоалкилфенол вспенивание
В целом можно отметить положительное влияние применения ПАВ при получении пен и с точки зрения их прочностных показателей. Так, образцы пен, полученные на основе оптимальных дозировок неионогенного (Неонол АФ-9-10) и катионного (Aliquat 336) ПАВ характеризуются большей прочностью на сжатие - 31 и 88%, соответственно (табл. 4).
Табл. 4. Прочность на сжатие вспененных образцов с использованием ПАФ-1
|
ПАВ, 5 % масс. |
Прочность на сжатие, МПа |
Коэффициент вспенивания (Kв) |
|
|
- |
0.52 |
3.1 |
|
|
Aliquat 336 |
0.68 |
4.3 |
|
|
Неонол АФ-9-10 |
0.98 |
3.3 |
Выводы
1. Имеются перспективы использования для получения эпоксидных пен полиаминоалкил-фенолов, выполняющих одновременно функции, как отверждающего, так и вспенивающего агента. При этом на эффективность ПАФ в роли газообразователя оказывает влияние технология его приготовлен, а именно порядок ввода реагентов. Для дальнейшего развития работы предлагается использовать ПАФ-1, полученный при 45 °С по варианту 1 и соотношении Ф:П:ЭДА = 1:2:2.
2. Варьирование типа и дозировки ПАВ в рецептуре эпоксидных пен позволило повысить коэффициент вспенивания до 40% и прочность на сжатие до 88%.
Литература
1. Клемпнер Д. Полимерные пены и технологии вспенивания. перевод с английского под ред. А.М. Чеботаря. Санкт-Петербург: Профессия. 2009. 599с.
2. Handbook of Polymeric Foams and Foam Technology 2nd Edition. Edited by Daniel Klempner and VahidSendijarevic. Hanser Publishers: Munich. 2009. 599p.
3. Нестеров С.Е. Технология пенополиэпоксидов на основе этилендиаминов. М.: Химия. 2003. 258с.
4. Берлин А.А., Шутов Ф.А. Пенополимеры на основе реакционно способных олигомеров. М.: Химия. 1978. 210с.
5. Патент 95112812 (RU) МПК6 C08L93/00, C08K5/17, C08J9/06. Композиция для пенопласта. Корнейчук Г.К., Олейник А.М., Стибло Г.К., Шуман А.И. Заявка: 95112812/04, 20.07.1995. Дата публикации заявки: 20.11.1996.
6. Медведева К.А., Черезова Е.Н. Синтез новых алкиламинофенольных отверждающих агентов для эпоксидных олигомеров. Вестник Казанского технологического университета. 2011. №14. С.201-204.